目前，我国生产系稀土抛光粉的原料有下列几种：（1）氧化（ceo2），由混合稀土盐类经分离后所得（w（ceo2）=99%）；（2）混合稀土氢氧化物（re（oh）3），为稀土精矿（w（reo）***50%）化学处理后的中间原料（w（reo）=65%，w（ceo2）***48%）；（3）混合氯化稀土（recl3），从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土（主要含la，ce，pr和nd，河源稀土抛光粉，w（reo）***45%，w（ceo2）***50%）；（4）高品位稀土精矿（w（reo）***60%，w（ceo2）***48%），有内蒙古包头混合型稀土精矿，山东微山和四川冕宁的氟碳矿精矿。
稀土抛光粉的应用
由于系稀土抛光粉具有较优的化学与物理性能，所以在工业制品抛光中获得了广泛的应用，如已在各种光学玻璃器件、电视机显像管、光学眼镜片、示波管、平板玻璃、半导体晶片和金属精密制品等的抛光。
高系稀土抛光粉，主要适用于精密光学镜头的高速抛光。实践表明，稀土抛光粉生产厂家，该抛光粉的---良，稀土抛光粉的价格，抛光效果较好，由于价格较高，国内的使用量较少。
对于高抛光粉来讲，氧化的品位越高，抛光能力越大，使用寿命也增加，---是硬质玻璃长时间循环抛光时（石英、光学镜头等），以使用高品位的抛光粉为宜。低抛光粉一般含有50%左右的ceo2，其余50%为la2o3?so3，nd2o3?so3，pr6o11?so3等碱性盐或laof、ndof、prof等碱性---物，此类抛光粉特点是成本低及初始抛光能力与高抛光粉比几乎没有两样，因而广泛用于平板玻璃、显像管玻璃、眼镜片等的玻璃抛光，但使用寿命难免要比高抛光粉低。
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