因此其粒度分布一般不大于10μm，粒度大于10μm的抛光粉（包括稀土抛光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世，随着现代科学技术的发展，其应用前景不可预测，但目前其市场份额还很小，稀土抛光粉生产工艺，属于研发阶段。
以稀土抛光粉中ceo2量来划分：
稀土抛光粉的主要成分是ceo2，据其ceo2量的高低可将抛光粉分为两大类：一类是ceo2含量高的价高---的高抛光粉，稀土抛光粉生产厂家，一般ceo2/treo***80%，另一类是ceo2含量低的廉价的低抛光粉，其含量在50%左右，或者低于50%，潮州稀土抛光粉，其余由la2o3，nd2o3，稀土抛光粉生产，pr6o11组成。
目前，我国生产系稀土抛光粉的原料有下列几种：（1）氧化（ceo2），由混合稀土盐类经分离后所得（w（ceo2）=99%）；（2）混合稀土氢氧化物（re（oh）3），为稀土精矿（w（reo）***50%）化学处理后的中间原料（w（reo）=65%，w（ceo2）***48%）；（3）混合氯化稀土（recl3），从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土（主要含la，ce，pr和nd，w（reo）***45%，w（ceo2）***50%）；（4）高品位稀土精矿（w（reo）***60%，w（ceo2）***48%），有内蒙古包头混合型稀土精矿，山东微山和四川冕宁的氟碳矿精矿。
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