因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的抛光粉（包括稀土抛光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世，随着现代科学技术的发展，其应用前景不可预测，但目前其市场份额还很小，属于研发阶段。

以上原料中除种外，第2,3,4种均含轻稀土（w（reo）≈98%），且以ceo2为主，w（ceo2）为48%~50%.我国具有丰富的资源，据---，其工业储量约为1800万吨（以ceo2计），这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础，也是我国---的一大优势，并可促进我国稀土工业继续高速发展。

　　1.4主要生产工艺及设备

　　1.4.1高系稀土抛光粉的生产

　　以稀土混合物分离后的氧化为原料，以物理化学方法加工成硬度大，粒度均匀、细小，呈面心立方晶体的粉末产品。其主要工艺过程为：原料***高温***煅烧***水淬***水力分级***过滤***烘干***系稀土抛光粉产品。

　中系稀土抛光粉，主要适用于光学仪器的中等精度中小球面镜头的高速抛光。该抛光粉与高粉比较，可使抛光粉的液体浓度降低11%,抛---率提高35%,制品的光洁度可提高一级，抛光粉的使用寿命可提高30%.目前国内使用这种抛光粉的用量尚少，有待于今后继续开发新用途。

　　低系稀土抛光粉，如771型适用于光学眼镜片及金属制品的高速抛光；797型和c-1型适用于电视机显象管、眼镜片和平板玻璃等的抛光；h-500型和877型适用于电视机显象管的抛光。此外，其它抛光粉用于对光学仪器，---机和照像机镜头等的抛光，这类抛光粉国内用量，约占国内总用量85%以上。