以稀土抛光粉中ceo2量来划分：

　　稀土抛光粉的主要成分是ceo2,据其ceo2量的高低可将抛光粉分为两大类：一类是ceo2含量高的价高---的高抛光粉，一般ceo2/treo***80%,另一类是ceo2含量低的廉价的低抛光粉，其含量在50%左右，或者低于50%,其余由la2o3,nd2o3,pr6o11组成。

目前，我国生产系稀土抛光粉的原料有下列几种：（1）氧化（ceo2），由混合稀土盐类经分离后所得（w（ceo2）=99%）；（2）混合稀土氢氧化物（re（oh）3），为稀土精矿（w（reo）***50%）化学处理后的中间原料（w（reo）=65%,w（ceo2）***48%）；（3）混合氯化稀土（recl3），从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土（主要含la,ce,pr和nd,w（reo）***45%,w（ceo2）***50%）；（4）高品位稀土精矿（w（reo）***60%,w（ceo2）***48%），有内蒙古包头混合型稀土精矿，山东微山和四川冕宁的氟碳矿精矿。

　中系稀土抛光粉，主要适用于光学仪器的中等精度中小球面镜头的高速抛光。该抛光粉与高粉比较，可使抛光粉的液体浓度降低11%,抛---率提高35%,制品的光洁度可提高一级，抛光粉的使用寿命可提高30%.目前国内使用这种抛光粉的用量尚少，有待于今后继续开发新用途。

　　低系稀土抛光粉，如771型适用于光学眼镜片及金属制品的高速抛光；797型和c-1型适用于电视机显象管、眼镜片和平板玻璃等的抛光；h-500型和877型适用于电视机显象管的抛光。此外，其它抛光粉用于对光学仪器，---机和照像机镜头等的抛光，这类抛光粉国内用量，约占国内总用量85%以上。